国内真的有光刻机吗？国产光刻技术现状和未来发展怎么样？

国内光刻机技术现状到底怎么样？

说到国内有没有光刻机，答案是肯定的！目前中国的光刻机研发主要集中在几个关键企业和技术上，表现其实挺不错的。举个例子，上海微电子装备公司已经生产出了90nm工艺的国产光刻机，完全满足国防和军工的基础需求，性能相当于2004年英特尔奔腾4处理器的水平。除此之外，工信部主导的氟化氩光刻机研发也取得了突破，已经能实现65nm以下分辨率甚至8nm的潜力，这可是大大推动了国产光刻机技术的进步和自主创新能力。

目前国内半导体基建项目和新技术进展有哪些？

上海卓远12英寸基地：这是全球首个第四代半导体量产基地，预计2025年3月开工。令人激动的是，这里的金刚石晶圆良率已经突破30%，对标美国的AKHAN金刚石芯片技术，意味着国产半导体水平正快速赶超国际先进水平。
武汉新芯特色工艺线：专注28nm BCD工艺，主要生产汽车芯片。该项目已经吸引了小米和比亚迪联合注资20亿，目标超越格芯在新加坡的厂区，展现出强劲的发展潜力。
中芯京城二期项目：计划每月新增10万片28nm产能，虽然仍依赖ASML光刻机，但国产替代的步伐明显加快。
纳米压印技术的兴起：由于EUV光刻机系统复杂、成本高，纳米压印技术逐渐成为替代方案，商业化进程加速。国内资本市场也开始关注与纳米压印技术相关的龙头企业，比如水晶光电，这家公司在光刻和纳米压印领域都有实力储备，技术储备和市场潜力都非常吸睛。
上海微电子的最新进展：他们已经量产了基于193nm ArF光源的SSA600/20系列光刻机，覆盖国内80%的低端光刻机市场。更让人兴奋的是，上海微电子的28nm浸润式光刻机预计明年就能量产交货，标志着国产光刻机在先进工艺节点的发展迈出了实质性步伐。
多重曝光技术突破：面对ASML不卖先进EUV光刻机的限制，国内企业通过多重曝光技术，积极探索用浸润式DUV光刻机来实现7纳米甚至5纳米工艺。这种创新让国产芯片制造企业有了新的突破口，未来国产先进工艺不再是梦想。